非消融性分段雷射 (Nonablative Fractional Laser)
非消融性分段雷射 (Nonablative Fractional Laser)
2005 年，非消融性分段雷射換膚 (nonablative fractional laser resurfacing, NAFR) 進入市場。12 與非分段雷射不同，分段雷射 (fractionated lasers) 會在治療區內各處散布出直徑僅為毛囊十分之一的微治療區 (MTZ)。MTZ 的深度可設定在 0 and 550 µm 之間，直徑則介於 50 to 150 µm。作為一種非消融性雷射，其熱能以真皮為標靶，並不汽化角質層 (stratum corneum)，因而在受損的表皮與真皮的凝固組織上留下一層天然的敷料。MTZ 的形成使周圍的角質細胞 (keratinocytes) 不受損傷，並較全面性消融雷射 (fullfield ablative lasers) 促進更快的癒合，同時仍能刺激真皮纖維母細胞 (dermal fibroblasts) 與膠原蛋白生成。
對 skin types V and VI 的病人而言，對換膚技術的需求日益增加。7 膚色較深者具有較多的表皮黑色素 (epidermal melanin)、體積較大且廣泛分布於表皮角質細胞內的黑色素體 (melanosomes)，以及反應性較強的纖維母細胞與黑色素細胞 (melanocytic) 反應。這些特徵增加了在暴露於雷射光後發生色素異常 (dyspigmentation) 的傾向。7 如同非消融性非分段裝置，非消融性分段雷射 (nonablative fractionated lasers, non-AFLs) 在 Fitzpatrick skin types 直到 VI 的範圍內都比消融性雷射更為安全，並讓病人術後恢復更為迅速。6 目前市面上的裝置包括 1,440-nm Nd:YAG (Cynosure Affirm, Palomar StarLux)、1,550-nm Erbium glass (Solta Fraxel re:store)、1,565-nm fiber (Lumenis ResurFx)，以及 1,927-nm thulium fiber (Solta Fraxel re:store Dual)。摻鉺 1,550-nm 非消融性雷射 (Fraxel re:store Dual 1,550 nm) 已成功用於 Fitzpatrick skin types IV to VI 病人的痤瘡疤痕 (acne scars) 換膚，13 但在 Fitzpatrick skin types IV to VI 者中伴隨相當高比例的自限性發炎後色素沉著 (postinflammatory hyperpigmentation)。術前以 hydroquinone 治療並不能降低此風險。13 與非分段雷射不同，接受 NAFR 治療的病人中只有 10% 會出現痤瘡樣疹 (acneiform eruption)，19% 會出現粟粒疹 (milia)。10 除皺紋外，NAFR 已成功用於治療肥厚性疤痕 (hypertrophic scars)，包括因手術（如 Mohs surgery）所造成者。14 在治療帶有紅斑成分的疤痕時，建議先以血管性雷射（如脈衝染料雷射 [pulsed-dye laser, PDL]）治療，再施行 NAFR，以確保 PDL 所治療的是疤痕的血管成分，而非來自 NAFR 的紅斑。15 對於紅斑性手術疤痕，已有人建議採用每 4 週一次 PDL 治療、其後接續 NAFR 的方案。Eilers 等人 15 建議在以 NAFR 換膚治療肥厚性手術疤痕時，採用 30 to 50 mJ 與 20% to 39% density 的設定 (Figs. 67-3 to 67-6)。15
圖 67-3：非消融性消融性分段換膚 (nonablative ablative fractional resurfacing) 前。