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皮瓣設計 (Flap design)

• 注射局部麻醉劑前應先標記紅唇緣 (vermillion border)，因此邊界常會變形扭曲。
• 可使用眶下神經阻斷 (infraorbital nerve block) 或頦神經阻斷 (mental nerve block) 以減少部分變形。
• 皮瓣設計於中線 (midline) 或旁中線 (paramedian) 位置，寬度約為缺損寬度的 50%；如此可維持上下唇比例，因為原發缺損與續發缺損閉合會造成相似的寬度縮減。
• 皮瓣垂直高度應等於缺損高度。
• 大範圍缺損可採延伸式 Abbe 皮瓣 (extended Abbe flap)，納入超過頦褶 (mental crease) 的皮膚。
• 上唇缺損可延伸以置換整個亞單位 (subunit)，並將縫線隱藏於鼻檻 (nasal sill) 或鼻唇褶 (melolabial crease)。
• 製作模板 (template) 並轉移至對側唇的目標位置。
• 蒂部 (pedicle) 可設計為內側基底或外側基底，但常選擇與缺損同側 (ipsilateral)，以利術後保有較大口裂 (oral aperture)。