皮瓣設計 (Flap design)
外科醫師應在浸潤局部麻醉劑 (local anesthetic) 之前先標記出唇紅緣 (vermillion border)，因為此邊界往往會在麻醉後變形。可使用眶下神經阻斷 (infraorbital nerve block) 或頦神經阻斷 (mental nerve block) 來盡量減少這種變形。皮瓣設計於中線 (midline) 或旁中線 (paramedian) 位置，其寬度約為缺損 (defect) 寬度的 50%。如此有助於維持上下唇兩者的比例，因為閉合主要缺損與次發缺損 (both the primary and secondary defects) 時，會使兩唇的寬度有相似程度的縮減。皮瓣的垂直高度應等於缺損的高度。對於範圍較大的缺損，已有文獻描述一種延伸式 Abbe 皮瓣 (extended Abbe flap)，其涵蓋超過頦溝 (mental crease) 以外的皮膚。21,22 上唇 (upper lip) 的缺損可加以延伸，以置換整個亞單位 (subunit)，並將縫線隱藏於鼻基底 (nasal sill) 或鼻唇溝 (melolabial crease) 內。製作一個樣板 (template) 並轉移至對側唇上所欲設計的位置。可考慮採用以內側 (medially) 或外側 (laterally) 為基底的蒂部 (pedicle)，但通常會選擇與缺損同側 (ipsilateral) 的一側，以利術後保有較大的口腔開口 (oral aperture)。